该型号设备适用于研磨小批量微球,主要由下磨盘、上磨盘、保持器组成。被加工球在上下磨盘之间滚动,上磨盘设计有一圈V型沟道或平面盘,用于放住零件,上下磨
盘平行转动使被加工球沿V型沟道滚动;上下磨盘转动,球在保持器圆孔中间有一定间隙,球推着保持器运动,保持器起磨削作置被加工球零件,保持器设计有多个圆孔
,保持器的圆孔与上磨盘的V型槽包用。上磨盘组件安装有压力传感器,并通过调节螺钉支撑,球体加载压力可调。
设备技术指标:
1)制控响应:≤±100ms
2)下磨盘转速:1~100r/min(连续可调)
3)下磨盘端跳:≤0.005mm
4)下磨盘位移:0-50mm
5)下磨盘回转半径:225mm
6)上磨盘公转转速:0~50r/min(连续可调)
7)上磨盘自转转速:0~50r/min(连续可调)
8)上磨盘输出轴径跳:≤0.005mm
9)绝缘电阻:≥100MΩ
10)上磨盘进给行程:0-100mm,精度0.1mm
11)PH值监测:分辨率0.1
12)压力加载:加载范围
0-50N,精度±0.05N
13)上下磨盘平度/平行度≤0.002/0.005mm
14)加工范围:Sφ0.8~2.5mm